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过程其实也好理解。

说白了,就是在晶圆上涂抹上光刻胶,再按照设计图掩膜,最后利用光刻机的紫外线穿透掩膜,再溶解掉上面裸露出来的晶圆部分。

露出一个个凹槽。

而之后,就是惨杂了,通过离子注入,赋予晶体管的特性。

这里说白了,就是把硼、磷注入,然后填充铜,按照设计图设置电路,连接金属线。

层层叠叠,密密麻麻像是高速公路一样,不过基本上都是毫米级别。

而最后。

就是最终的封装测试环节,装上散热片、衬底基片,基本上就算是一块完整的cup了。

整个过程,看上去简单。

算不上多复杂。

甚至军用设备上,可以弄出很大很大一块硅片出来,用于处理超复杂的数据和指令。

但。

随着时代的进步,需求越来越高,这看上去不复杂的东西,就变的越来越复杂了。

说的最简单的。

就是每一年手机芯片的大小基本不变,但里面的线路却越来越复杂,一块体积不大的晶圆上,需要做越来越多的工作,处理更多的指令。

这就需要,一块芯片上有更多的线路,有更精准和细微的通道。

而光刻,就成了其中非常重要,同时也是最开始便非常关键的环节。

光刻技术,决定了这块芯片上,可以做更多的东西。

而目前国际上最顶尖的技术,已经达到了193n。手机版阅读网址:

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